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EUV光刻機未能大規模應用,主要是因為這個

作者:admin來源:華強電子網 日期:2017/11/27 16:06:18 人氣: 標簽:

    在當前半導體制程已經微縮到10 納米以下之際,大家都寄望借助極紫外光微影設備(EUV) 能協助制程向前發展,也使得摩爾定律(Moore's Law) 能夠再往下延伸。不過,就目前生產EUV 設備的艾司摩爾(ASML) 來說,因為其制造的困難度,已經積壓了大量訂單在手上。現在,有國外媒體指出,之所以使得艾司摩爾的EUV 設備生產不順的主因,就是來自于設備中光學鏡頭供應商蔡司(Carl Zeiss) 供貨進度跟不上需求所致。

    外媒報導指出,艾司摩爾EUV 的光學鏡頭是德國蔡司公司所生產。但是,由于蔡司的鏡頭供貨量不足,導致艾司摩爾的EUV 極紫外光微影設備生產進度緩慢。據了解,7 月份艾司摩爾曾經報告指出,至今已經積壓了多達21 臺EUV 的訂單,每臺EUV 訂單成本高達1.5 億美元。而2017 年年底前最多也就只能交付8 到9 臺EUV 設備。

    報導進一步指出,根據外界預估,隨著三星和臺積機電都宣布將在2018 年試生產內含EUV 技術的晶圓制程,使得2017 年EUV 設備的銷售金額預計可達到14.82 億美元,這比2016 年的10.36 億美元足足成長了43%,而且這個數字在2019 年還將會進一步上升到30 億美元。

    目前,艾司摩爾的客戶都是一些半導體大廠,比如臺積電,三星,英特爾(Intel) 等,如果拿不到EUV 設備,新世代制程的生產計畫必定會受到影響,任誰也不想看到這樣的情況發生。所以,艾司摩爾在生產還將要再加把勁的努力。據了解,目前EUV 設備的生產,現在還面臨一些問題需要調整。除了來自蔡司的鏡頭的供應不足之外,還有設備上的芯片保護膜仍需要改進。

    縱觀整個IC產業的發展,EUV光刻算得上是迄今為止碰到最難解決的問題。

    EUV的電源將等離子體轉換成13.5nm波長的光線,然后經過鏡子的幾重反射之后,再打落到晶圓上。現在的EUV可以在晶圓上“打印”一些小功能,但現在EUV碰到的主要問題是電源。現在的電源并不能產生足夠的功率讓EUV大幅度提高效率,且不能滿足經濟可行性。也因為這個重要原因,EUV的面世時間從上一個節點延誤到現在。

    從eBeam Initiative最近的一個調查中可以看出,事情似乎正在轉變,業界對EUV的信心似乎正在逐漸提升。光刻機的主要供應商ASML似乎也在電源問題上取得了重大進展。光刻膠和光罩似乎也取得了長足進步。

    但關于EUV的討論依然沒有停止,現在關注的問題轉移到工具價格、運行時間和隨機現象。

    很多人都在聲稱,EUV將會在2018或者2019年大批量投產。如果真的是這樣,業界肯定會熱烈擁抱這個技術。但我們也要對EUV抱有悲觀態度,畢竟任何事都有可能發生。

    現階段,在三星和臺積電都宣布將試產內含EUV 技術在內的晶圓,反觀半導體大廠Intel 的態度則是不急不徐。雖然,Intel 不是當前第一個采用EUV 技術量產晶圓的企業,但將來Intel 或許會是購買最多的EUV 設備的公司。

    因為,2017 年三星的資本支出已經達到了170 億美元,Intel 則是120 億,臺積電也有100 億元,最少的是格羅方德,只有25 億美元。但是,所有廠商在EUV 部分的花費總共才14.82 億元。因此,預估在2019 年這個數字會進一步上升至30 億美元之際,Intel 為加速自己的步伐,并與競爭對手相抗衡,將會比較大程度的采購EUV 設備來強化自己的技術,這就是其關鍵手段之一。

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